வெல்டிங் குறிப்புகள் - ஹைட்ரஜன் அகற்றும் சிகிச்சையின் படிகள் என்ன

டீஹைட்ரஜனேற்ற சிகிச்சை, டீஹைட்ரஜனேற்ற வெப்ப சிகிச்சை அல்லது பிந்தைய வெல்ட் வெப்ப சிகிச்சை என்றும் அழைக்கப்படுகிறது.

வெல்டிங் செய்த உடனேயே வெல்டிங் பகுதியின் பிந்தைய வெப்ப சிகிச்சையின் நோக்கம், வெல்ட் மண்டலத்தின் கடினத்தன்மையைக் குறைப்பது அல்லது வெல்ட் மண்டலத்தில் உள்ள ஹைட்ரஜன் போன்ற தீங்கு விளைவிக்கும் பொருட்களை அகற்றுவது. இது சம்பந்தமாக, பிந்தைய வெப்ப சிகிச்சை மற்றும் பிந்தைய வெல்ட் வெப்ப சிகிச்சை ஆகியவை ஒரே பகுதி விளைவைக் கொண்டுள்ளன.

வெல்டிங்கிற்குப் பிறகு, வெப்பமானது ஹைட்ரஜன் வெளியேறுவதை ஊக்குவிக்கவும், கடினத்தன்மை அதிகரிப்பதைத் தவிர்க்கவும், வெல்ட் சீம் மற்றும் வெல்டட் கூட்டு ஆகியவற்றின் குளிரூட்டும் வீதத்தைக் குறைக்கிறது.

(1) வெல்டிங் செய்யப்பட்ட மூட்டின் செயல்திறனை மேம்படுத்துவதற்கும் அதன் கடினத்தன்மையைக் குறைப்பதற்கும் பிறகு சூடாக்குவது வெல்டிங்கிற்குப் பிறகு வெல்டிங் மண்டலம் ஒப்பீட்டளவில் அதிக வெப்பநிலையில் இருக்கும்போது மட்டுமே பயனுள்ளதாக இருக்கும்.

(2) குறைந்த வெப்பநிலை விரிசல்களைத் தடுப்பதற்குப் பிறகு சூடாக்குவது முக்கியமாக வெல்டிங் மண்டலத்தில் ஹைட்ரஜன் ஆற்றலைப் போதுமான அளவு அகற்றுவதை ஊக்குவிப்பதாகும்.

ஹைட்ரஜனை அகற்றுவது வெப்பத்திற்குப் பிந்தைய வெப்பநிலை மற்றும் வைத்திருக்கும் நேரத்தைப் பொறுத்தது. ஹைட்ரஜன் நீக்குதலின் முக்கிய நோக்கத்திற்கான வெப்பநிலை பொதுவாக 200-300 டிகிரி ஆகும், மேலும் வெப்பத்திற்கு பிந்தைய நேரம் 0.5-1 மணிநேரம் ஆகும்.

பின்வரும் சூழ்நிலைகளில் வெல்ட்களுக்கு, வெல்டிங்கிற்குப் பிறகு உடனடியாக வெப்ப ஹைட்ரஜன் நீக்குதல் சிகிச்சை மேற்கொள்ளப்பட வேண்டும் (4 புள்ளிகள்):

(1) தடிமன் 32mmக்கு மேல், மற்றும் பொருள் நிலையான இழுவிசை வலிமை σb>540MPa;

(2) 38மிமீக்கும் அதிகமான தடிமன் கொண்ட குறைந்த-அலாய் எஃகு பொருட்கள்;

(3) உட்பொதிக்கப்பட்ட முனை மற்றும் அழுத்தம் பாத்திரம் இடையே பட் வெல்ட்;

(4) வெல்டிங் செயல்முறை மதிப்பீடு ஹைட்ரஜன் நீக்குதல் சிகிச்சை தேவை என்பதை தீர்மானிக்கிறது.

வெப்பத்திற்கு பிந்தைய வெப்பநிலையின் மதிப்பு பொதுவாக பின்வரும் சூத்திரத்தால் வெளிப்படுத்தப்படுகிறது:

Tp＝455.5[Ceq]p－111.4

சூத்திரத்தில், Tp——வெப்பநிலைக்கு பிந்தைய வெப்பநிலை ℃;

[Ceq]p——கார்பன் சமமான சூத்திரம்.

[Ceq]p=C+0.2033Mn+0.0473Cr+0.1228Mo+0.0292Ni+0.0359Cu+0.0792Si－1.595P+1.692S+0.844V

வெல்ட் மண்டலத்தில் ஹைட்ரஜன் உள்ளடக்கத்தை குறைப்பது பிந்தைய வெப்ப சிகிச்சையின் முக்கிய விளைவுகளில் ஒன்றாகும். அறிக்கைகளின்படி, 298K இல், குறைந்த கார்பன் எஃகு வெல்ட்களிலிருந்து ஹைட்ரஜன் பரவல் செயல்முறை 1.5 முதல் 2 மாதங்கள் ஆகும்.

வெப்பநிலை 320K ஆக அதிகரிக்கும் போது, ​​இந்த செயல்முறையை 2 முதல் 3 நாட்கள் மற்றும் இரவுகளில் குறைக்கலாம், மேலும் 470K க்கு வெப்பப்படுத்தப்பட்ட பிறகு, அது 10 முதல் 15 மணிநேரம் ஆகும்.

வெப்பத்திற்குப் பிந்தைய மற்றும் டீஹைட்ரஜனேற்றம் சிகிச்சையின் முக்கிய செயல்பாடு, வெல்ட் உலோகத்தில் அல்லது வெப்பத்தால் பாதிக்கப்பட்ட மண்டலத்தில் குளிர் பிளவுகளை உருவாக்குவதைத் தடுப்பதாகும்.

வெல்டிங்கிற்கு முன் வெல்டிங்கை முன்கூட்டியே சூடாக்குவது குளிர் விரிசல்களை உருவாக்குவதைத் தடுக்க போதுமானதாக இல்லாதபோது, ​​​​உயர்-கட்டுப்பாட்டு மூட்டுகள் மற்றும் கடினமான-வெல்ட் ஸ்டீல்களின் வெல்டிங் போன்றவற்றில், வெப்பத்திற்குப் பிந்தைய செயல்முறை நம்பத்தகுந்த முறையில் உருவாவதைத் தடுக்க வேண்டும். குளிர் விரிசல்கள்.